三塔式RTO蓄热式焚烧炉在半导体制造业中的应用实践

三塔式RTO蓄热式焚烧炉在半导体制造业中的应用实践摘要

2.1 背景某半导体制造企业在制程废气处理方面面临挑战,需要一种高效且环保的解决方案。2.2 应用细节应用领域半导体制造业制程废气处理废气类型制程废气、气相污染物设备处理能力15,000 Nm³/h废气浓度100-800 ppm(波动)废气处理效率99%以上能源回收率94%以上运行时长每日20小时2.3 成功经验高效废气处理: 三塔式RTO蓄热式焚烧炉成功处理了半导体制造中复杂的气相污染物,废气处

2.1 背景

某半导体制造企业在制程废气处理方面面临挑战,需要一种高效且环保的解决方案。

2.2 应用细节

应用领域半导体制造业制程废气处理
废气类型制程废气、气相污染物
设备处理能力15,000 Nm³/h
废气浓度100-800 ppm(波动)
废气处理效率99%以上
能源回收率94%以上
运行时长每日20小时

2.3 成功经验

  • 高效废气处理: 三塔式RTO蓄热式焚烧炉成功处理了半导体制造中复杂的气相污染物,废气处理效率维持在99%以上,确保了废气排放达标。

  • 能源高效利用: 设备能源回收率达到94%以上,通过回收废气中的热能,为企业提供了额外的能源来源,降低了能源开支。

  • 稳定运行: 在每日20小时运行的情况下,设备表现出色,维持高效、稳定的运行状态,为制程提供了可靠的废气处理解决方案。

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